|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[313]
| 79245 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 21263 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 58064 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 69622 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 94410 |
|
43 |
HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
[1] | 239 |
|
42 |
CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
[1] | 236 |
|
41 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해]
[1] | 232 |
|
40 |
플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해]
[2] | 229 |
|
39 |
CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
[1] | 228 |
|
38 |
화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마]
[1]  | 226 |
|
37 |
실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma]
[1] | 223 |
|
36 |
RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral]
[1] | 217 |
|
35 |
진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy]
[1] | 214 |
|
34 |
플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가]
[1] | 212 |
|
33 |
인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath]
[1] | 207 |
|
32 |
Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath]
[2] | 206 |
|
31 |
RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power]
[1] | 206 |
|
30 |
챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식]
[1] | 205 |
|
29 |
corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마]
[1] | 204 |
|
28 |
Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length]
[1] | 203 |
|
27 |
Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해]
[1] | 202 |
|
26 |
반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가]
[2] | 199 |
|
25 |
Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터]
[1] | 195 |
|
24 |
가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해]
[1] | 194 |
