번호 제목 조회 수
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공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20329
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57248
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68799
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92791
461 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4226
460 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4168
459 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4068
458 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4008
457 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3982
456 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3979
455 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3978
454 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3977
453 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3901
452 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3852
451 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3822
450 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3794
449 Descum 관련 문의 사항. [1] 3750
448 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3728
447 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3670
446 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3662
445 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3582
444 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3576
443 ESC Cooling gas 관련 [1] 3569
442 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3565

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