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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73315
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53 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 509
52 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 482
51 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 470
50 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 469
49 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 469
48 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 465
47 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 464
46 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 464
45 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 462
44 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 460
43 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 453
42 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 443
41 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 440
40 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 439
39 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 432
38 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 426
37 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 423
36 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 421
35 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 419
34 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 418

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