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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다.
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메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘
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안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다.
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713 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다.
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712 |
corona model에 대한 질문입니다.
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711 |
플라즈마 제균 탈취 가능 여부
[1] | 210 |
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710 |
plasma 공정 중 색변화
[1] | 620 |
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709 |
ISD OES파형 관련하여 질문드립니다.
[1] | 445 |
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708 |
PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다.
[1] | 403 |
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707 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다.
[1] | 621 |
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706 |
E-field plasma simulation correlating with film growth profile
[1] | 320 |
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705 |
Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유
[1] | 1039 |
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704 |
OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다.
[1] | 606 |
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703 |
self bias
[1] | 537 |
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702 |
Self bias 내용 질문입니다.
[1] | 835 |
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701 |
정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다.
[1] | 714 |
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700 |
챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성
[1] | 623 |
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699 |
PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
[1] | 1190 |
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698 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량
[1] | 368 |
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697 |
ICP lower power 와 RF bias
[1] | 1454 |
