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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76827
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20250
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68740
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92580
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1011
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 598
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1063
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1534
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 889
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2064
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 839
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4162
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1132
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 978
645 plasma 형성 관계 [1] 1536
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 2948
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3436
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4833
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2054
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1124
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1276
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3970
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1685
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1358
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