Others SCCM 단위에 대하여 궁금합니다.

2004.06.25 13:02

관리자 조회 수:142248 추천:425


===============================<질문>=======================================

안녕하십니까??
궁금한게 있어여...
플라즈마 장비를 공부하다가 이상한 단위를 만나서요...
좀 알려 주세요.. sccm 이라는 건데요...
무슨 가스량을 나타내는 단위이긴 한거 같은데.. 정확한 내용을 몰라서요..
어떤 뜻인지..알고 계시면 좀 알려주세요.. 부탁 드립니다.. 좋은 하루 되세요...


==============================<답변>========================================

SCCM 은 flow rate를 의미합니다. 즉 torr-liter/sec (t-l/s)와 같이 쓰입니다.
sccm은 standard cc per minute로 (0C, 1atm 상태에서의 값입니다.)
1sccm= 6.02e23/22400cm^3 molecules / min 즉 분당에 2.7e19개의 분자입자들이 흘러들어가는 정도의 기체유량을 의미합니다.
참고로 1 t-l/sec와는 79.05sccm인 관계가 있으며 1 t-l/sec= 2.13e21 molecules/min의 관계입니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73076
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17641
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65728
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86104
707 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 18
706 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 51
705 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 57
704 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 67
703 Self bias 내용 질문입니다. [1] 90
702 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 107
701 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 122
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 124
699 self bias [1] 128
698 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 141
697 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 181
696 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 209
695 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 211
694 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 225
693 plasma modeling 관련 질문 [1] 239
692 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 247
691 ESC DC 전극 Damping 저항 256
690 plasma striation 관련 문의 [1] file 266
689 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 270
688 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 273
쓰기
태그

Boards

XE Login