Etch Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술]

2009.08.07 17:14

김기권 조회 수:22812 추천:272

저는 LCD Dry Etcher 내 하부에 장착되는  ESC(Plasma ceramic Coating Type) 만드는 회사에 다니고 있습니다.
전공이 재료공학 인지라 Etcher 에 대한 설비, 공정진행 여러가지 모자란 부분이 많습니다. 이 부분을 독학 공부를 하고 싶은데 도움되는 교재를 추전해 주셨으면 좋겠습니다.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103272
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24710
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61515
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105936
» Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22812
193 플라즈마 측정기 [How Langmuir Probe Works] [1] 21560
192 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22547
191 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28977
190 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 25030
189 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [전자 가열 매커니즘과 이온 에너지] [1] 19349
188 궁금해서요 16492
187 PM을 한번 하시죠 19802
186 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20641
185 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스] [1] 23265
184 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19477
183 Full Face Erosion 관련 질문 [2] 19639
182 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26859
181 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [열용량과 방전 전력에 따른 냉각 장치] [1] 21751
180 RF에 대하여... 32606
179 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24434
178 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [반사파 형성과 플라즈마 운전 조건] [2] 25280
177 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [RF 방전과 이온 에너지] [1] 19162
176 RF plasma에 대해서 질문드립니다. [Sheath model, Ion current density] [2] 21370
175 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential] [2] 23106

Boards


XE Login