Others 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다.

2010.06.08 13:16

지성훈 조회 수:20257 추천:94

안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다.
우선 우리 회사에서 연구개발하는 여러 가지 중에 한 영역이 플라즈마 토치를 개발하는 프로젝트입니다.
이미 개발을 마치고 상용화에 성공한 토치가 많이 있습니다만, 이번에 개발하는 토치에 대해서
enthalphy를 분석하고자 합니다. 혹시 서울대 lab에서 enthalphy probe를 보유하고 있는지 여부와
enthalphy probe를 우리 장비에 측정이 가능한지 문의드리고 싶습니다.


h.p. : 010-6417-0500
tel : 042-478-9800

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
223 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. 17190
222 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 34920
221 질문 있습니다. [1] 18367
220 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22606
219 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25579
218 플라즈마 진단법에 대하여 [1] 20542
» 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] 20257
216 UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20885
215 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24827
214 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24528
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27205
212 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41192
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23371
210 석영이 사용되는 이유? [1] 19999
209 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18525
208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23254
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21098
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23718
205 질문이 몇가지 있읍니다. [1] 19189
204 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] 21324

Boards


XE Login