안녕하세요. 최근에 원자층식각(Atomic Layer Etching) 또는 ALD시 remote plasma란 용어가 자주 나오는데요, 일반적으로 이야기 하는 Plasma 와 어떤 차이가 있는 건가요? 생성방법? 이온 밀도? 등등 차이점에 대해 설명좀 부탁드립니다. 항상 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76917
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20304
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57221
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68771
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92748
260 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8144
259 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 10027
258 고온 플라즈마 관련 8090
257 안녕하세요 교수님. [1] 9046
256 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8582
255 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 13067
254 MFP에 대해서.. [1] 7831
253 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6570
252 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7710
251 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10323
250 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8127
249 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24369
248 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15891
247 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15812
» remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 22212
245 cross section 질문 [1] 19723
244 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29281
243 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17741
242 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21202
241 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24766

Boards


XE Login