Etch Dry Etching Uniformity 개선 방법

2016.03.02 17:46

돌맹 조회 수:3313

안녕하세요? nano imprint 및 etching을 이용하여 패턴 가공을 하는 직장인 입니다.

Al 에칭 시 전체적인 Uniformity가 잘나오지 않습니다. 항상 한쪽으로(같은 방향) 쏠리어 에칭이 됩니다.

여러 조건들 SRC,Bias 파워,유량 조절, 압력 조절 등 조건 변경하여 해보았으나 마찬가지 형태로 진행이 됩니다.

Etcher 장비는 최대 8inch 까지 가능한 장비이며 에칭 가스는 Cl2, BCl3 사용 중입니다.


uniformity 개선 관련하여 어떠한 방법이 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [102] 3672
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15355
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50581
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63008
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82184
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1490
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 8773
307 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 2794
306 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 703
305 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1584
304 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2613
» Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3313
302 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 955
301 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1355
300 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1423
299 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 2929
298 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2486
297 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9488
296 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 6907
295 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1149
294 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1393
293 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2033
292 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1278
291 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2255
290 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9263

Boards


XE Login