안녕하세요. 직장에서 Etcher를 다루고 있습니다.


저희 장비 중 Microwave Plasma를 사용하고, 여기에서 Impedance를 Matching하는 Matcher가 있습니다.


이 Matcher는 아래 도파관이 있고, 그 위에 3개의 Stub가 있는데, 정확하게 Matching을 진행하는 원리가 궁금합니다.


다른 ICP하고는 달리 Matcher가 회로로 되어 있는 것이 아니니 머리속으로 물리적인 현상을 떠오르는데 어려움이 있네요.


원리가 표현된 관련 문헌이나 자료가 있으면 더욱 감사드립니다.

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