Others analog tuner관련해서 질문드립니다.
2017.03.07 16:14
안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.
pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side와 bottom에 달았습니다.
여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] | 73031 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17616 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 55516 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 65696 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 86027 |
| 706 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 | 14 |
| 705 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. | 32 |
| 704 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 66 |
| 703 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 75 |
| 702 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 93 |
| 701 | self bias [1] | 98 |
| 700 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 105 |
| 699 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 113 |
| 698 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 125 |
| 697 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다.
[1]  | 178 |
| 696 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 202 |
| 695 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 207 |
| 694 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 211 |
| 693 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 236 |
| 692 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 246 |
| 691 | ESC DC 전극 Damping 저항 | 246 |
| 690 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] | 262 |
| 689 |
plasma striation 관련 문의
[1] | 263 |
| 688 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 270 |
| 687 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 272 |