Etch PR wafer seasoning

2018.03.19 10:54

권보경 조회 수:2740

안녕하세요. 반도체 장비업계에 근무하는 권보경입니다.


ICP 타입 O2 플라즈마에서 E/R drop의 이슈가 있었으나

PR wafer로 seasoning 후 회복되면서 일전과 비슷한 수준으로 saturation 되었습니다.


이 원리는 무엇이고 bare wafer seasoning은 효과가 있는지 알고싶습니다.

답변 부탁드립니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [302] 78023
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20838
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57736
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69251
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93627
398 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1073
397 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24137
396 MATCHER 발열 문제 [3] 1483
395 플라즈마 기초입니다 [1] 1313
394 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1596
393 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1661
392 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 2123
» PR wafer seasoning [1] 2740
390 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6556
389 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 633
388 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1960
387 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1895
386 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2975
385 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1031
384 ICP 후 변색 질문 762
383 Plasma etcher particle 원인 [1] 3119
382 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2441
381 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 358
380 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4431
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1061

Boards


XE Login