안녕하세요

반도체쪽에서 일하는 직장인 입니다.

다름이 아니라 CVD공정 양산 설비 Depo시 간헐적으로  Plasma On시 초기 2초간 Reflect가 발생하더라구요...

이와 관련하여 해당 Chamber Issue로는  Plasma On시 Load 값 Issue가 있어 Matcher교체 하였구요. 

이 후 동일 문제로 RF Filter 교체 하였고 접지Cable Resetting 하였고 Heater 교체도 하였습니다.

이 후에 초기 Reflect가 발생 하였다는 것을 알게 되어 초기 Reflect 관련 문제를 해결하려고 하는데

아직 정확한 원인을 찾지 못하여 이렇게 많은 분들께 조언 구합니다.

실제 Fab에서 양산 설비이기 때문에 Gas 유량, 압력, 동축 Cable 길이 등은 다른 양산 설비와 동일 하구요. (실제 확인도 하였습니다.)

Generator에서 인가되는 Power도 문제 없는 것을 확인하였습니다.

추가로 어떤 부분을 확인하면 도움이 될 지 많은 분들의 조언 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 74976
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18824
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56304
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66801
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88252
419 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 961
418 RF 변화에 영향이 있는건가요? 17466
417 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 419
416 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 742
415 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 661
414 etching에 관한 질문입니다. [1] 1856
413 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3374
412 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5326
411 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5142
410 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 432
409 Si Wafer Broken [2] 2120
» Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1240
407 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1139
406 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 879
405 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1834
404 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 24447
403 Collisional mean free path 문의... [1] 701
402 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2062
401 플라즈마 색 관찰 [1] 3586
400 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 14062

Boards


XE Login