Sputtering 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다.
2019.03.04 10:48
안녕하세요.
PECVD로 탄소 박막을 합성하고, 표면을 Oxide 시키기 위해 plasma asher로 200W/30 min 동안
처리하였는데 반응이 없어 다른 방법을 모색중입니다.
그래서 스퍼터로 가능할까 싶어서 궁금증을 여기에 풀어 봅니다.
보통 O2/N2는 반응성 스퍼터링에 사용되는 것으로 알고 있습니다.
혹시나, (1) Ar 대신 O2 or N2만 주입해도 플라즈마가 형성이 가능한가요?
그리고 (2) 타겟없이도 플라즈마가 뜨는가요?
이 두 부분이 궁금합니다.
생뚱맞는 질문일수도 있지만,
답변 부탁드립니다.
감사합니다.
댓글 1
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