Monitoring Method charge effect에 대해
2019.03.20 11:10
안녕하세요
저는 SiO2 기판을 홀더 위에 두고 수소플라즈마를 띄워 실험을 진행하는데
이 기판이 부도체이다보니 기판에 전하가 빠져나가지 못하고 축적되는 것 같습니다.
이 기판의 charge effect를 챔버안 플라즈마를 띄운 상태에서 어떤 장비를 사용하여 실험적으로 어떻게 측정할 수 있는지 혹은 관련 논문이 있는지 알고싶습니다.
답변기다리고 있겠습니다. 감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] | 75027 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18870 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56343 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66867 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88354 |
| » | charge effect에 대해 [2] | 1308 |
| 458 | PECVD 증착에서 etching 관계 [1] | 1179 |
| 457 | 터보펌프 에러관련 [1] | 1595 |
| 456 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 498 |
| 455 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1106 |
| 454 | 플라즈마 충격파 질문 [1] | 739 |
| 453 | ESC Cooling gas 관련 [1] | 3223 |
| 452 | O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] | 856 |
| 451 | 플라즈마 코팅 [1] | 983 |
| 450 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2516 |
| 449 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 412 |
| 448 | [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] | 1126 |
| 447 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 633 |
| 446 | 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] | 670 |
| 445 | RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] | 765 |
| 444 | RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] | 799 |
| 443 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 486 |
| 442 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1469 |
| 441 |
염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다.
[1]  | 358 |
| 440 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 413 |
부도체 표면 전위를 측정하기는 쉽지 않습니다. 대부분 경우 capacitively coupled 시켜, 즉 기판 홀더의 전위를 측정해서 예측하며 실제 self bias 값을 예상합니다. 관련해서 self bias 즉, 전하가 축적되어서 생긴 표면 전위에 대해서 자료를 찾아 보시면 위의 질문을 좀 더 구체적으로 전개해 나갈 수가 있겠습니다. self bias 현상은 본 게시판에 여러번 설명한 바 있으니 참고하시기 바랍니다.