안녕하세요. 제가 최근에 플라즈마 코팅관련 회사에 입사하여 현재 플라즈마 공부중 입니다.

현재 VPS장비로 테스트 중인데 0~1 torr 보다 30~50 torr 일 떄 플라즈마제트의 모습이 훨씬 안정적인 이유를 어떻게 설명할 수 있을까요?

0~1 torr 일 때는 플라즈마의 형상이 지나치게 두껍고 불안정적인 모습입니다. 반면 챔버 내부의 압력을 증가시켰을 때는 훨씬 안정적이고

얇은 플라즈마의 형태를 띄고 있습니다. 이를 residence time과 관련해서 이해를 해야할까요?

아직 많은 논문들을 찾진 못했지만 대부분의 논문에서도 30~300 torr로 실험한 조건들이 많아 보였습니다.

또 다른 한가지 질문은 VPS 공정에서 분위기가스 즉 챔버내를 아르곤같은 불활성기체로 채워주는 이유는 단순하게 산화나 질화등을 막기

위함인가요? 분위기가스의 역할을 어떻게 정의하면 될까요?

기초적인 질문 죄송합니다. 답변 주시면 감사하겠습니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [253] 76389
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19971
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57059
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68529
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91230
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2039
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3273
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1049
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 658
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3838
» VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 422
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2258
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1136
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1318
464 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 945
463 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1877
462 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2406
461 Wafer particle 성분 분석 [1] 2273
460 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2550
459 charge effect에 대해 [2] 1445
458 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1427
457 터보펌프 에러관련 [1] 1721
456 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 591
455 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1313
454 플라즈마 충격파 질문 [1] 779

Boards


XE Login