안녕하십니까, 식각공정 장비 담당하는 회사원입니다. 

장비에서 올라오는 신호로 Plasma에 대해 해석을 하는 경우가 있는지 알고싶습니다.

양산라인에서 쓸만한 Monitoring Method에 대해서도 알고싶습니다.


제 주 업무는 장비에서 올라오는 신호들을 분석하는 것인데요,

(저희 부서에서는 일본계 회사 제품을 사용하고있습니다.)


업무를 하다보면 제품 온도 변화 혹은 내부 상태의 변화에 따라 불량이 발생하는 경우가 자주 있습니다.

아쉬운 점은 이걸 장비 신호로 플라즈마의 공정상 영향을 미치는 정보들이 해석이 안되는 경우가 많습니다.

(특정 구간에서 불량이 검출되었으나 Trend 상으로 전혀 문제가 없어 보이는)


센서 심화를 더 시켜야 하는것인지 고민될때가 많습니다.(H/W적인 변경점을 주는것은 상당히 어렵습니다만)

연구실에서 사용하는 방법론들에 대해 알려주시면 많은 도움이 될 것 같습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57163
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68685
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92246
» [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1371
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 734
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6269
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1642
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1176
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3176
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2869
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 741
480 wafer bias [1] 1129
479 Group Delay 문의드립니다. [1] 1144
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 513
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1999
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1045
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1950
474 PEALD관련 질문 [1] 32612
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2208
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3498
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1070
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 708
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3953

Boards


XE Login