안녕하세요. 반도체회사 설비 담당 엔지니어입니다.

일단 저의 부서는 PKG공정이며 한 설비에 CVD chamber가 붙어서 부수적인 역할을 하고있습니다.

따라서 CVD(RF)에 관련된 지식이 많이 부족한 상태입니다.

그와중에 양산을 진행하다보니 RF파라미터에 문제가 생겼을때 단순 parts를 교체해가며 경험적으로 원인을 찾고

문제를 해결하고있습니다...

이에 답답함을 느껴 실제 이론도 생각해가며 문제를 해결하고 싶다는 생각이 많이 들더라구요.

그래서 현업에서 궁금했던 내용들 몇가지를 여쭤보고 싶습니다.


1. Chamber PM 후 depo 진행시 Shunt(load cap), voltage, current 값이 모두 상승하는 현상이 있었습니다.

    제가 질문방에서 검색하고 공부한 내용으로

    > shunt는 50옴으로 맞추기위해 sensing 해가면서  resistance를 맞춘다 (임피던스의 실수성분)

    > series는 reactance 성분을 없앤다 (임피던스의 허수성분) 라고 알고 있는데,

    >>>> 그렇다면 shunt가 기존대비 높아진다는것은 pm후 chamber내의 resistance가 높아졌고

             높아진 Resistance를 줄이기위해 shunt가 높아진것인가요??? (pF총용량대비 퍼센트가 높아졌고)

           >> voltage와 current가 함께 높아진것도 상관관계가 있는 것인가요?


2. 위에 적은것처럼 Series가 리액턴스 성분을 없대준다고 알고 있는데 또 다른글에서는 phase를 줄여준다고 하는것을 본적있습니다.

    Series가 리액턴스 즉, 허수성분을 없애는것이 V,I의 phase를 없애는것과 동일한 내용인가요?


3. 예를들어 300w의 RF를 켰을때 1초간격의 raw data를 보면 Delivery power (v*i*cos(phase))가 300W까지

    올라가도(안정화돼도) phase는 계쏙 -70대를 유지하고 있었습니다.

    이론상 phase가 없어야 최대전력을 출력하는 것이고 300W를 제대로 출력하고있다면 phase가 0이어야 하는게 아닌가요?


미약한 지식을 가지고 두서없게 질문드린것 같아 죄송합니다ㅠㅠ

게시판에서 너무 많은도움받고 있습니다~ ㅎㅎ 항상 감사합니다!!

확인 후 답변 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2818
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 14029
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49960
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61902
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80609
» Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 1687
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 999
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 16601
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 665
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2225
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 345
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 2692
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 413
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 395
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 14960
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 546
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2130
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 693
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 612
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1420
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 383
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 919
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 947
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 4643
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 993

Boards


XE Login