Skip to content
플홈
오시는 길
누구
질문방
검색
전체
Plasma in general
DC glow discharge
Collision
Sheath
Ion/Electron Temperature
Others
Plasma Source
ATM Plasma
CCP
ICP
Remote Plasma
Water Discharge Plasma
Others
Chamber component
Matcher
ESC
Pulse operation
Shower head
Chamber Impedance
Others
Monitoring Method
OES
Langmuir Probe
VI(Impedance) Sensor
B dot
Others
Process
Etch
Deposition
Sputtering
Ashing
Others
Etch
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
2020.07.09 13:00
도리
조회 수:2296
안녕하세요 교수님
Etch시 센터와 사이드 etch rate이 다를 경우 어떤 공정 파라미터를 조절해야 하나요?
댓글
1
목록
번호
제목
조회 수
공지
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[276]
76872
공지
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
20273
공지
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
57199
공지
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
68751
공지
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
92694
557
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2]
2337
556
Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요
[2]
963
555
안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다
[2]
761
554
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다.
[2]
2833
553
PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다.
[1]
1446
552
안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다.
[2]
2491
551
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다
[1]
705
550
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1]
1608
549
챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다.
[3]
4526
548
Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계.
[2]
1130
547
플라즈마 PIC 질문드립니다.
[1]
10385
546
[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1]
2492
545
O2 Asher o-ring 문의드립니다.
[1]
896
544
진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해
[1]
3805
543
자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다.
[1]
488
»
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1]
2296
541
플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서)
[1]
1850
540
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다.
[3]
3757
539
플라즈마 살균 방식
[2]
11483
538
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
[1]
1387
Boards
Close Login Layer
XE Login
아이디
비밀번호
로그인 유지
회원가입
ID/PW 찾기
인증메일 재발송
Close Login Layer