ICP 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
2020.09.08 18:07
교수님 안녕하세요, 플라즈마 관련 공부를 하고 있는 취업준비생입니다.
ICP 장비를 공부하다가 궁금한점이 생겨서 질문 올립니다.
1. ICP장비는 소스파워로 이온 밀도를 조절하고, 바이어스 파어로 이온 에너지를 조절한다고 하는데, 소스파워는 이해가 가는데
바이어스 파워로 이온 에너지를 조절한다는 메커니즘이 이해가 안갑니다. 블로킹 커패시터를 달아서 한다고 하는데, 이해가 안가네요..
2. capacitive coupling이라는 현상으로 인해 벽이 스퍼터 되는 문제점이 발생한다고 하는데, 이 벽이 스퍼터 된다는게
플라즈마가 균일하지 않게 된다는 말일까요?
3. 이 질문은 PE CVD 관련 질문인데요, PECVD를 진행할 때 전극 면적비를 같게 하는 이유가 라디칼을 이용한 증착 방법이기 때문에
이온의 영향을 줄이기 위함이다. 이렇게 생각했는데, 제 생각의 논리가 맞을지 궁금합니다.
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76875 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20274 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92698 |
| 797 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 11 |
| 796 | Druyvesteyn Distribution | 13 |
| 795 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 24 |
| 794 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 28 |
| 793 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 42 |
| 792 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 60 |
| 791 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 64 |
| 790 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 65 |
| 789 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 71 |
| 788 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 71 |
| 787 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 71 |
| 786 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 79 |
| 785 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 79 |
| 784 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 92 |
| 783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 94 |
| 782 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 117 |
| 781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 117 |
| 780 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 120 |
| 779 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 138 |
| 778 | Microwave & RF Plasma [1] | 138 |