OES Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.
2020.09.11 17:48
안녕하세요.
우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다
Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.
실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.
가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77021 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20349 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57272 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68817 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92817 |
797 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144745 |
796 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134457 |
795 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95803 |
794 | Plasma source type | 79712 |
793 | Silent Discharge | 64561 |
792 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54977 |
791 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47944 |
790 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43710 |
789 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41282 |
788 | 대기압 플라즈마 | 40717 |
787 | Ground에 대하여 | 39494 |
786 | RF frequency와 RF power 구분 | 39096 |
785 | Self Bias | 36391 |
784 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35970 |
783 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34966 |
782 | PEALD관련 질문 [1] | 32652 |