안녕하세요. 교수님.

일전에 ICP에서 발생되는 self bias로 쿼츠가 식각될 수 있는지에 대해 문의드렸습니다.

그 때의 답변 감사드립니다.

 

이번에 여쭙고 싶은것은 그때와 이어지는 내용인데요.

저희의 실험(다층박막) 중 SiO2가 아닌 다른 물질을 증착 중 식각된 쿼츠에서 SiO2가 기판으로 날아와 일부 증착되는 것으로 예상이 됩니다.

그래서 여러가지 특성에 일부 영향을 주는데

쿼츠 쪽에서 발생되는 시각을 줄이기 위해 self bias를 줄일 방안을 생각해보았습니다.

그 중에 ICP영역(코일 전면부)에 영향을 주지 않는 선에서 anode를 장착하여 self bias를 만드는 전자들을 빼내어주는 방안을 생각해보았는데

이 경우 플라즈마 형성에는 문제가 없는지와 이 방법으로 정말 self bias를 줄여 식각현상을 줄이거나 없앨 수 있는지가 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [53] 1147
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 857
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49367
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59325
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 73860
593 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 351
592 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 532
591 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 506
590 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 188
589 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 383
588 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 313
587 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 472
586 플라즈마 챔버 [2] 381
585 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 404
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 767
583 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 302
» 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1090
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 286
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 172
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 313
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 180
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 8573
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 401

Boards


XE Login