안녕하세요, 현재 반도체 회사에서 근무 중입니다.

관리하는 설비 중 Decoupled Plasma를 사용하는 설비가 있습니다.

ICP Type의 설비이고 ESC Chuck은 사용하지않습니다.

pulsed rf power를 사용하는 설비인데, 여기서 decoupled plasma의 개념에 대해 궁금해서 질문남깁니다.

 

질문) Decoupled Plasma는 ion density와 ion energy를 분리한다는 의미인데 rf power의 상승에 따라 ion density는 상승하지만 ion energy는 낮은 상태를 유지하는 Mechanism이 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5609
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16898
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51349
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64213
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84231
590 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2545
589 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 578
588 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1288
587 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 1380
586 플라즈마 챔버 [2] 714
» Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 781
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2027
583 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 494
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1393
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 650
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 479
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 678
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 289
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 19082
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 747
575 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 1961
574 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 303
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 617
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6314

Boards


XE Login