안녕하세요 교수님. 항상 친절한 답변 감사드립니다.

 

회사를 다니면서 공부를 하다보니 제가 부족한 부분이 많아 자꾸 찾아뵙게 되네요.

 

현재 염근영 교수님의 '플라즈마 식각기술' 이라는 책을 공부하고 있는데요.

 

읽다보니 간단한것 같은데 이유를 모르겠는게 있어서 문의 드립니다.

 

Pressure가 공정에 미치는 영향 중에 압력이 낮아지면 rf voltage가 높아진다고 나와있는데 그 이유가 궁금합니다.

 

그리고 이 전압이라함은 플라즈마와 전극 사이의 전압을 말하는건가요?

 

제가 전기쪽으로는 지식이 많이 부족해서 헷갈립니다 ㅜㅜ 

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [277] 76879
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68754
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92706
» RF 전압과 압력의 영향? [1] 1693
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1367
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1182
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1645
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 721
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2349
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1535
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 451
629 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1379
628 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2096
627 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8738
626 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3563
625 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 14843
624 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1346
623 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1017
622 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 874
621 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2291
620 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1537
619 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1407
618 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 713

Boards


XE Login