안녕하세요 교수님

CCP type의 PECVD 공정을 맡고 있는 직장인입니다.

매번 교수님의 설명으로 큰 도움 받고 있습니다, 대단히 감사드립니다.

 

이번에는 reflect power에 의한 arc 관련 질문 드립니다.

우선 현상은 이렇습니다. HF 가 turn on 되고나서 수 m sec 동안 matcher 가 즉각적으로 대응하지 못하여, 인가되는 power가 전부 반사되는 상황입니다. Power는 1000W 수준이고 수 m sec 이후에는 reflect를 정상적으로 제압해 나갑니다.

 

Reflect가 발생하는 수 m sec동안 micro arc 가능성이 있다는 얘길 들었습니다. Arc 의 조건에 해당 상황이 부합하지 않는데, 어떤 원리로 arc가 발생할 가능성이 있을까요?

 

늘 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77756
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20729
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57648
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69148
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93409
797 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 183
796 Druyvesteyn Distribution 82
795 플라즈마 식각 커스핑 식각량 75
794 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 160
793 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 50
792 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 78
791 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [Child-Langmuir law 이해] [1] 189
790 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 167
789 플라즈마 설비에 대한 질문 134
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 154
787 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 334
786 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 265
785 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 185
» 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 161
783 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 331
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 254
781 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 209
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 106
779 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 451
778 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 203

Boards


XE Login