Matcher RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다.

2022.04.19 11:40

맨시티챔스우승 조회 수:1011

안녕하세요

측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.

 

ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.

Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.

 

안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...

이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?

 

혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.

바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.

 

, , 이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76829
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20251
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68743
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92582
796 Druyvesteyn Distribution new 2
795 플라즈마 식각 커스핑 식각량 11
794 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 12
793 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 5
792 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 14
791 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 46
790 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 52
789 플라즈마 설비에 대한 질문 58
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 78
787 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 203
786 skin depth에 대한 이해 [1] 159
785 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 111
784 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 106
783 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 168
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 142
781 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 131
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 68
779 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 243
778 Microwave & RF Plasma [1] 130
777 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 200
쓰기
태그

Boards

XE Login