[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
2021.05.03 12:39
안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.
금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.
해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.
(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)
글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.
감사합니다.
** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.
댓글 102
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
» | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [102] | 3674 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 15355 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 50581 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 63008 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] | 82184 |
144 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43062 |
143 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34241 |
142 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 30960 |
141 | DC Bias Vs Self bias [5] | 30338 |
140 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 29020 |
139 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
![]() | 29008 |
138 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 28052 |
137 | RF에 대하여... | 27958 |
136 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24388 |
135 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24079 |
134 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 23681 |
133 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23190 |
132 | Arcing | 22937 |
131 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22273 |
130 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22031 |
129 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 21894 |
128 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21695 |
127 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21072 |
126 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20665 |
125 | plasma cleanning에 관하여.... | 20626 |
안녕하세요 plasma사용장비사 직원입니다 유용한 정보감사합니다