Sputtering RF Sputtering Target Issue

2022.10.28 21:14

백지현 조회 수:612

안녕하세요 교수님. 이번에 새로이 RF 스퍼터를 사용하게 된 학생입니다. 

첨부한 이미지와 같이 현재 metal oxide 타겟을 이용하여 증착 후 타겟에 검은색 ring 모양의 contamination이 생기는 이슈가 있습니다.

서칭 결과 Magnetic feild로 인한 redeopsition으로 추청되는데 해당 현상이 맞는 것인 지와 현상을 해결하기 위한 방법(e.g. RF power 감소)을 여쭙고자 합니다.

아직 스퍼터를 사용한 지 얼마 되지 않아 많이 미숙하여 자체적인 판단이 어려워 도움을 요청드리는 바입니다.

날이 많이 추워졌는데 건강 조심하시고 좋은 하루 되시길 바랍니다!

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
183 플라즈마 식각 커스핑 식각량 25
182 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 71
181 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 71
180 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 139
179 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 186
178 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 187
177 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 204
176 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 205
175 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 219
174 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 235
173 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 254
172 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 259
171 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 267
170 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 281
169 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 298
168 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 324
167 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 360
166 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 370
165 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 396
164 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 405

Boards


XE Login