지금 모기업에서 인턴을 하면서 CVD파트에 대해서 공부를 하고있습니다.

PECVD를 과정에서 플라즈마의 균일도가 중요 하다고 합니다.

이때 어떠한 변수들이 플라즈마의 균일도에 영향을 주는지 궁급합니다.

 

이와더불어 N2플라즈마와 수소플라즈마의 차이점에 대해서 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76735
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
36 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 169
35 PECVD Uniformity [1] 508
34 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 228
33 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 399
32 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 737
31 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1849
30 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4149
29 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1104
28 질문있습니다 교수님 [1] 22120
27 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1730
26 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3278
25 PEALD관련 질문 [1] 32614
24 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 716
23 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1499
22 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1295
21 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 472
20 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1661
19 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1425
18 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2306
17 플라즈마 색 관찰 [1] 4258

Boards


XE Login