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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문
[1] | 90 |
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반사파에 의한 micro arc 질문
[2] | 116 |
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CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여
[2] | 186 |
25 |
주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가
[1] | 709 |
24 |
CCP RIE 플라즈마 밀도
[1] | 584 |
23 |
plasma striation 관련 문의
[1] | 485 |
22 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] | 1017 |
21 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1] | 5081 |
20 |
연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준
[1] | 599 |
19 |
CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요?
[3] | 3562 |
18 |
RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때
[1] | 874 |
17 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 2290 |
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anode sheath 질문드립니다.
[1] | 1000 |
15 |
라디컬의 재결합 방지
[1] | 806 |
14 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해
[1] | 1468 |
13 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응
[1] | 990 |
12 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[2] | 16668 |
11 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
[1] | 1326 |
10 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 1072 |
9 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 19785 |