안녕하세요. 교수님.

현재 반도체 장비업체에서 Dry etch관련 공정 업무를 수행하고있는 연구원입니다.

평소 플라즈마에 대해 공부하며 다른 사람의 질의응답들을 참고하곤 했었는데, 처음 질문글을 남기게 되네요.

플라즈마 관련 공부 및 실험을 진행하다 궁금한 사항이 있어, 질의를 드립니다.


1. 플라즈마를 방전시켰을때, 발생하는 arcing현상이 발생하는 이유가 뭔지 궁금합니다.

   절연 물질이 절연파괴가 되면서 해당 부분으로 전하가 축적되어 전하차이에 의해 발생하는건가요?

   arcing현상을 줄이기위한 방법들은 어떤 것들이 있을까요? 절연층을 두껍게한다거나, Ground 접지를 이용한 방법들 외 다른 방법들도

   있는지요?


2. 추가로 비슷하게 Local plasma? 플라즈마 방전시 안정화되지 못하고 깜빡거리는 현상역시 발생하는 이유에 대해 궁금합니다.

    사용하고 있는 parameter는 Pressure,  gas, Power 등인데, 각 parameter들이 플라즈마 방전이 발생하기에 부족하거나 불안정하여

    발생되는 현상인가요?


감사합니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76728
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20191
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68700
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
789 플라즈마 설비에 대한 질문 14
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 33
787 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 164
786 skin depth에 대한 이해 [1] 125
785 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 80
784 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 85
783 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 129
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 111
781 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 113
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 59
779 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 207
778 Microwave & RF Plasma [1] 112
777 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 178
776 ICP에서 전자의 가속 [1] 137
775 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 53
774 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 214
773 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 62
772 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 100
771 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 158
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 149

Boards


XE Login