Others 플라즈마 밀도와 라디칼

2024.03.13 13:45

김준서 조회 수:286

안녕하세요, 플라즈마에 대해 공부중인 3학년 학부생입니다.

 

플라즈마 밀도는 탐침을 통해 전자의 밀도를 측정함으로써 계산한다고 알고 있습니다.

플라즈마는 준준성이므로, 사실상 이는 이온의 밀도와도 거의 비슷할 것으로 생각합니다.

그렇다면 라디칼의 밀도 또한 플라즈마 밀도와 비례하는 것이 맞나요?

 

전자&이온 밀도 증가<-비탄성 충돌을 일으킬만한 에너지를 가진(가속된) 전자가 충분하며, gas의 몰(mole)수도 충분함

<-따라서 라디칼의 생성 확률도 높음

 

추가적으로, Pressure가 플라즈마 밀도에 끼치는 영향이 궁금한데,

인터넷에서는 압력이 증가하면 기체 몰수가 증가하므로 그만큼 이온&라디칼이 많아진다고 설명하는 글이 많았습니다.

하지만 흔히 알려진 파셴법칙과 연결해서 생각해보면, 압력이 증가할수록 MFP 또한 짧아지기 때문에 그만큼 전자가 충분히 가속되지 못할 가능성이 있다고 생각합니다. 따라서 최대한의 플라즈마 밀도 구현을 위해서는 적절한 Pressure을 설정해 주어야한다고 생각하는데, 해당 분석이 맞을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76902
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20295
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57212
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68764
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92723
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 17
798 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 20
797 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 66
796 Druyvesteyn Distribution 24
795 플라즈마 식각 커스핑 식각량 36
794 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 81
793 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 17
792 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 33
791 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 86
790 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 90
789 플라즈마 설비에 대한 질문 78
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 100
787 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 229
786 skin depth에 대한 이해 [1] 180
785 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 126
784 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 124
783 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 206
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 158
781 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 145
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 72

Boards


XE Login