안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75754
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19439
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56665
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68001
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90229
267 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 51
266 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 87
265 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 106
264 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 135
263 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 143
262 corona model에 대한 질문입니다. [1] 145
261 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 155
260 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 158
259 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 200
258 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 213
257 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 218
256 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 250
255 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 250
254 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 252
253 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 256
252 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 257
251 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 259
250 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 295
249 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 314
248 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 329

Boards


XE Login