Matcher RF 파워서플라이 매칭 문제
2022.07.21 23:00
안녕하세요? 현재 연구실에서 반응성 스퍼터링으로 TiO2 박막을 실험하고 있습니다.
연구실에서 사용하는 RF스퍼터 장비에는 오토매처가 있어 파워 인가 시 자동으로 임피던스 매칭을 수행합니다.
매처는 일반적인 장비로써 Load/Tune capacitor가 내장되어있습니다.
현재 RF 파워의 매칭 시간이 너무 긴 문제가 있습니다.
매칭이야 조건을 찾는 과정이니 시간이 걸릴 수 있겠지만, 매칭 시간만 1시간이 넘게 걸리고, 무엇보다 공정 조건이 같은데도 매칭이 이루어지는데 점점 오래 걸리고 있습니다.
반응 가스는 고순도 O2를 사용 중에 있으며, 순도는 용접용이어서 낮지 않습니다.
만일 매칭에 방해가 되는 요인이 있다면 어떤 요인이 있는 지 알고 싶습니다.
감사합니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76815 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20244 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57186 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68737 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92573 |
| 795 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 4 |
| 794 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 | 4 |
| 793 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 7 |
| 792 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 8 |
| 791 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 35 |
| 790 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 47 |
| 789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 52 |
| 788 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 60 |
| 787 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 67 |
| 786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 68 |
| 785 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 72 |
| 784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 76 |
| 783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 87 |
| 782 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 103 |
| 781 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 106 |
| 780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 110 |
| 779 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 128 |
| 778 | Microwave & RF Plasma [1] | 129 |
| 777 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 132 |
| 776 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 138 |