|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48404 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 48435 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 53873 |
|
511 |
RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이
| 46034 |
|
510 |
플라즈마내에서의 아킹
| 42390 |
|
509 |
Plasma source type
| 40257 |
|
508 |
SCCM 단위에 대하여 궁금합니다.
| 36938 |
|
507 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
| 33397 |
|
506 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 32701 |
|
505 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 31030 |
|
504 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
| 28313 |
|
503 |
DC Bias Vs Self bias
[5] | 28199 |
|
502 |
ICP 플라즈마에 관해서
[2] | 28122 |
|
501 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
| 28095 |
|
500 |
플라즈마 밀도
| 27508 |
|
499 |
반도체 관련 질문입니다.
| 27352 |
|
498 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
| 27169 |
|
497 |
[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 27114 |
|
496 |
DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여..
| 26999 |
|
495 |
matching box에 관한 질문
[1] | 26860 |
