====================================<질문>===================================
전 대학원에서 ICP장비를 이번부터 배우려고 하는 학생입니다.
sheath 영역은 플라즈마 장비를 배우는데, 그보다도 플라즈마를 배우는데 매우 중요한 것으로 알고 있습니다. 좀더 이 영역에 대한 좀더 자세한 내용을 알고 싶은데 어디에서 찾을 수 있을지 궁굼합니다. 그리고 selective etching에대해 알고 싶습니다.
====================================<답변>===================================
질문하신 내용의 대부분은 이미 설명한 내용입니다.
본란을 잘 찾아 보시기 바랍니다.
특히 ICP든 CCP든 플라즈마 발생 방법에 대해서 공부를 하고자
한다면 이 또한 이미 설명 드린 내용에서 기초적인 이해를 얻을 수
있을 것 입니다.
한 가지 권하고 싶은 것은 ICP 공부 이전에 DC glow 방전에 대해서 먼저
이해하고 공부를 시작하기 바랍니다.
(+ 저희 플라즈마 응용 연구실의 강의록을 참조하기 바랍니다.)
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] | 74880 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18735 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56223 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66683 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 87989 |
34 | Self Bias | 36232 |
33 | sheath와 debye shielding에 관하여 | 27188 |
32 | self bias (rf 전압 강하) | 26340 |
31 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23744 |
30 | 플라즈마 쉬스 | 23654 |
29 | self Bias voltage | 23440 |
28 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22578 |
27 | CCP 에서 Area effect(면적) ? | 21150 |
26 | RF plasma에 대해서 질문드립니다. [2] | 20688 |
25 | 이온주입량에 대한 문의 | 20616 |
24 | self bias [1] | 19213 |
» | ICP에 대하여 | 18104 |
22 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12359 |
21 | DC bias (Self bias) [3] | 10676 |
20 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9307 |
19 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8692 |
18 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 8627 |
17 | Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] | 4305 |
16 | plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] | 2614 |
15 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2346 |