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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55512
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65685
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86011
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1435
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 781
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 4208
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 879
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1082
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2318
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1465
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17151
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 834
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2921
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 430
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 4314
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 603
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 511
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19583
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 678
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2984
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 834
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 925
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2124
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