안녕하세요, 저는 학부(기계공학) 전공하고 반도체장비(하드웨어) 관련 유지보수 관련 업무를 하고 있고, 해외 대학원을 생각하고 있습니다.

평소 보충하지 못한 여러가지 지식 관련 도움을 많이 얻을 수 있어 이 곳 게시판이 너무 좋은데요, 이제는 저도 공부를 더 하고 싶어서 오랫동안 혼자 이것저것 알아보다가 결국 글을 남기게 되었습니다. 다만 저는 반도체 장비를 만드는데 기여하고 싶은 업무를 하고 싶은데요, 여기서 주로 많이 다뤄지는 Plasma나 여러 화학 반응과 관련된 공정 심화 내용보다는 장비의 Hardware적인 설계에 관한 공부를 하고 싶은데,  예를 들어, 

- Etching장비 Pendulum valve의 표면을 어떻게 가공처리하면 더 Damage에 잘 버티면서 경제적으로 만들 지,(재료?)

- Gas가 흐르는 유동을 분석해서 챔버 모양을 particle이 덜 쌓이는 방향으로 Design을 한다던 지,(유체?)

- Top plate의 열전달이 챔버 내 어떤식으로 전달되고 어떻게 Top plate를 만들어야 잘 전달이 될 지,(열?)

등 (제가 너무 모르는 상태에서 궁금한 점을 나열한 것이라 터무늬 없는 것이라면 죄송합니다.)

에 대한 공부를 더 하려면 어느 쪽으로 진학을 해야되는 지 궁금합니다. 사정이 있어 해외에 거주하고 있어 해외 여러 대학원 홈페이지의 연구들을 살펴보면, 이런 것과 관련 있는 연구실을 못찾겠습니다. 혹여 응용가능성이 있을 지도 모른 다는 생각으로 제가 업무경력을 내밀며 이야기를 꺼내보더라도 반도체 장비로만 구체적(?)이라면 받아주지도 않을 것 같습니다.ㅠ

결국 비교적 응용이 가능할 수 있는 분야로 진학한 뒤, 나중에 회사에 들어가서 저런 일을 하는 것으로 생각해야 될까요? 개인적으로 공부는 정말 더 하고싶어 진학은 꼭 할 것이며, 반도체 장비 연구나 설계를 위해 어느 주전공, 아니면 어느 대학교가 괜찮은 곳이 있을지 조언 부탁 드립니다.

(게시판 성격이 맞지 않다 하시면 바로 자삭 하겠습니다. 감사합니다.)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103430
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24731
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61553
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73532
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105984
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 877
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1447
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence] [1] 2095
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1340
650 doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구] [1] 2785
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1255
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율] [1] 4574
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1628
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1211
645 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 2077
644 RF matcher와 particle 관계 [DC glow 방전, 플라즈마 임피던스] [2] 4094
643 Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 4104
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath] [1] 5478
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [Polymer coating 식각] [1] 3178
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1657
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [플라즈마 전류량] [1] 1628
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리] [1] 4386
637 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 2281
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1885
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리] [1] 1554

Boards


XE Login