Plasma Source Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리]

2020.01.08 19:18

MUF 조회 수:902

안녕하세요?

저는 국내 PKG회사에 다니고 있는 공정 Eng'r입니다.

PKG공정에서 O2 Plasma 처리후 봉지재(Epoxy Mold Compound)를 밀봉하는 공정이 있는데

봉지재내의 Filler가 Si 계면과 분리되고 봉지재의 Resin만 Si 기판에 Molding이 되는 현상이 발생합니다.

Googling을 해 본 결과, Electrostatically charge된 Filler가 Plasma를 맞은 기판과 같은 Charge를 띄었을때 이 증상이 날 수 있다고 합니다.

Plasma별 대전된 극상(+인지, -인지)을 알 수 있을까요?

참고로 저희 회사에서는 O2, N2, Ar을 사용할 수 있습니다. 장비의 Parameter를 변경하여 극성을 바꿀 수 있는지도 문의드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79248
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21265
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58065
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69623
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94413
643 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 823
642 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 823
641 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 824
640 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [반응기 내벽 변동 및 벽면 불화 정도 판단] [1] 829
639 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다. [Corona breakdown, current density] [1] 831
638 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 831
637 새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터] [1] 838
636 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 850
635 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 852
634 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 863
633 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 864
632 플라즈마 충격파 질문 [플라즈마 생성에 의한 충격파 현상] [1] 868
631 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술] [1] 868
630 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 870
629 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"] [1] 877
628 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 880
627 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 883
626 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [글로우 방전 및 아크 방전] [1] 889
625 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [Breakdown 이해] [1] 889
624 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 898
쓰기
태그

Boards

XE Login