안녕하십니까 교수님. 반도체 장비회사에서 공정개발 직무를 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마 식각기술 책을 읽는 와중에 궁금한 점이 생겨 이렇게 질문을 남깁니다.

 

책에서 접지된 전극에 기판을 놓을 경우 Radical에 의한 반응이 반응성 이온의 영향보다 크게 되고,

고주파 전극에 기판을 놓게 되면 반대로 되어 이방성이 커진다고 하는데 

 

집지된 전극에 기판을 놓을 경우 왜 Radical 반응이 주가 되는 건가요?

접지라는 것이 이 구조에서 어떻게 영향을 끼치는 것인지 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103409
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24722
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61548
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73527
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105980
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계] [1] 2398
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델] [1] 969
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2942
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1962
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching] [1] 612
629 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응] [1] 2048
628 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 2975
627 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [플라즈마 생성 기전, RIE 모드] [1] 9445
626 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4240
625 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 15814
624 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1770
623 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1293
622 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1174
621 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2805
620 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1848
619 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 2089
618 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 979
617 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1467
616 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 1030
615 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응] [1] 1084

Boards


XE Login