안녕하세요.

반도체 장비를 생산하는 업체의 연구실 소속 최재혁이라고 합니다.

자사가 생산하는 제품중에 오존 발생기가 있으며 이 생산 제품의 주요 부품에 대해서는 

전량 수입에 의존 하고 있습니다.

언급된 주요 부품에 대해서 설명을 드리면 Chamber로 이루어진 발생장치 안에 O2를 

주입하고 촉매제와 플라즈마를 이용하여 O3를 발생시키는 역할로서 발생기의 핵심이라

고 할 수 있습니다.

자사 보안 규정에 따라 자세한 내용을 설명드릴 수 없는 점 양해를 부탁 드립니다, 

핵심 기술에 대한  위탁 및 공동 연구개발을 계획하고 있습니다.

교수님께서 시간이 되시면 저희 회사 인원과 함께 찾아 뵙고 프레젠테이션을 진행 했으

합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
588 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1984
587 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3774
586 플라즈마 챔버 [2] 1243
585 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1050
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3618
583 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 780
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1670
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1323
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 868
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1113
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 403
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 28521
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1355
575 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2438
574 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 455
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1104
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6418
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 806
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 585

Boards


XE Login