ICP ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]

2019.11.13 16:44

김도성 조회 수:2059

안녕하세요 교수님

반도체 공정 장비엔지니어로 근무중인 엔지니어입니다.

게시판과 질문글 내용을 찾아보다 궁금한점을 해소할수 없어 게시판에 질문글을 올리게 되었습니다.

 

sputter장비 ICP power 인가와 관련된  특이점이 지속적으로 발생되어 확인중에 있습니다.

 

장비 구조

-. RF etch chamber

-. ICP power 2.1Mhz 375W (none matching) _ Chamber 상단에 ICP power

-. RF power 13.5hMhz 150W (RF matching) _ Process stage bias power

 

process sequence와 특이점은 다음과 같습니다.

1. Ar gas boost 200sccm

2. Ar gas input 80sccm

3. ICP power 375W & RF power 150W 동시 인가 : Striking plasma 과정에서 RF (Bias) matching 동작

4. Striking Plasma 정상 이후 process 진행됨

 

문제점 : 3번 항목에서 ICP power 인가시 간헐적인 reflect power 발생으로 Power on 인식 불가

간헐적이라 함은, 장비 가동후 40분~1시간 까지는 상기 reflect power 발생없이 진행되나

40분~1시간 이후부터는 50%확률로 reflect power가 발생되는 부분입니다.

제품 진행을 멈추고 1시간 정도 대기했다가 다시 장비 가동시 문제 현상이 반복되고 있습니다.

 

추측하기로는

1번. ICP power와 RF power가 동시 인가되나, ICP power의 matcher 부재로 인한 reflect power 제어 불가

: 원래 장비 concept은 RF power 인가 이후 ICP power인가되어야 하나, 장비 개조(with 장비 maker) 이후

동시 인가되는 방식으로 변경됨. 개조 이후 1년 경과시점부터 해당 문제 발생

 

2번. ICP chamber 상단의 냉각 능력 저하

 :  안테나 코일과 냉각 라인이 설치되어 있음. 정확한 냉각 라인내부 온도 측정 및 flow meter 확인이 어려움

  

이와 같은 상황에서 어떠한 방식으로 점검 point를 맞춰나갈지

조언을 부탁드리고자 글을 올리게 되었습니다.

 

  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102989
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24692
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61454
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73492
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105865
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델] [1] 965
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2938
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1952
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching] [1] 610
629 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응] [1] 2035
628 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 2962
627 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [플라즈마 생성 기전, RIE 모드] [1] 9430
626 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4227
625 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 15790
624 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1765
623 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1292
622 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1171
621 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2795
620 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1847
619 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 2073
618 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 977
617 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1461
616 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 1021
615 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응] [1] 1081
614 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1662

Boards


XE Login