안녕하세요. 반도체 장비부품쪽 업종에서 일을 하고 있습니다.


현재 Etch 장비를 Coating 후 1Cycle을 사용한 후 Particle Issue가 일어나 중간에 세정을 진행하여 장착하면 E/R값이 상승합니다.


E/R값을 잡기 위해서 세정후에 Coating면에 Plasma를 조사하면 어떨까 하는데 효과가 있을지가 궁금하고 E/R값이 전반적으로 어떤 것에 영향이 미치는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76694
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
586 플라즈마 챔버 [2] 1235
585 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1047
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3609
583 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 780
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1666
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1311
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 867
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1112
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 400
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 28508
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1347
575 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2433
574 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 454
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1100
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6417
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 806
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 584
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 957
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1477

Boards


XE Login