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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63756
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479 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1004
478 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 1005
477 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1010
476 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1018
475 자기 거울에 관하여 1020
474 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1023
473 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1031
472 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1034
471 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1049
470 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1055
469 CVD 공정에서의 self bias [1] 1055
468 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1085
467 플라즈마 기초입니다 [1] 1086
466 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1098
465 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 1108
464 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1111
463 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 1116
462 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1124
461 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1136
460 MATCHER 발열 문제 [3] 1141

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