Others 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요.
2017.09.07 15:11
현재, 스퍼터링 시스템에 대해 공부를 하고 있습니다.
자연스레 플라즈마에 대해 알아야 되더라고요.
근데 공부 중에 플라즈마에 관련된 여러 변수 또는 파라미터들을 알게 되었습니다.
그 중 제가 질문하고자 하는 변수는 RF 파워인데요
RF 파워가 커지면 이온 에너지도 커진다고 알고 있습니다.
이게 왜 그런지 알고 싶습니다!
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76717 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20170 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
588 | CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] | 972 |
587 | Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] | 973 |
586 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 980 |
585 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 982 |
584 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 995 |
583 | 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] | 999 |
582 | 고진공 만드는방법. [1] | 1008 |
581 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1008 |
580 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 1008 |
579 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1011 |
578 | langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] | 1015 |
577 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1021 |
576 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1028 |
575 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1030 |
574 | 플라즈마 코팅 [1] | 1036 |
573 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1037 |
572 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1045 |
571 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1050 |
570 | Plasma Arching [1] | 1051 |
569 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1056 |
PF Power 는 인가 전압 x 인가 전류 x 위상차의 함수인 power factor를 곱한 값입니다. 즉 power의 크기가 커지는 경우는 인가된 전압이 커지나 전류가 커지거나 서로의 위상이 잘 정돈된 경우세 power가 커집니다. 따라서 전압이 커지는 경우, 전력 인가 대상 앞의 이온의 가속 에너지를 키울 수 있게 되며, 전류를 키우는 경우 인가 대상으로 흐르는 플라즈마 전류를 키울 수가 있겠고, 위상을 잘 맞추는 경우 전력이 플라즈마 가속과 생성 반응으로 잘 흡수되도록 할 수가 있게 됩니다. 전력의 인자를 나누고 그 역할을 생각해 보면 공부에 도움이 될 것입니다.