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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[338]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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618 |
CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료]
[1] | 4057 |
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anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘]
[1] | 3927 |
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616 |
안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력]
[1] | 2803 |
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615 |
플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응]
[1] | 3387 |
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614 |
RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
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613 |
CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model]
[1] | 4100 |
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612 |
라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수]
[1] | 3401 |
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611 |
LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리]
[2] | 5151 |
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610 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 4285 |
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609 |
전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과]
[1]  | 3182 |
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608 |
공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate]
[1] | 2293 |
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607 |
CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포]
[1] | 6763 |
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606 |
PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [소수/친수성 조절 연구]
[1] | 5855 |
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605 |
잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드]
[1] | 3894 |
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604 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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603 |
ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의
| 2759 |
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602 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance]
[2] | 2991 |
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601 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias]
[1] | 3792 |
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600 |
Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장]
[1] | 4227 |
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599 |
Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성]
[3] | 5829 |
