ESC Si Wafer Broken

2018.08.01 11:16

장영구 조회 수:2527

안녕하세요. 반도체회사에 다니고 있습니다.

Plasma와 연관성이 없을 수 있는 질문인데요..

Si Wafer가 ESC Chucking  Voltage의 Damage(??)에 의해 Edge Broken이 발생할 수 있는지 궁금합니다. (2500v)

ESC를 사용하다가 1년 이상되면 Broken이 발생하고, Broken 주기는 점점 빨라집니다.

ESC의 오랜 사용에 의한 노화 현상은 맞는거 같은데 어떤 영향성으로 발생하는지 궁금해서요...(ESC 교체시 정상되네요)

Plasma On/Off와는 연관성이 없었습니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76816
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20246
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68738
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92575
575 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1034
574 플라즈마 코팅 [1] 1038
573 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1043
572 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1049
571 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1053
570 Plasma Arching [1] 1061
569 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1062
568 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1065
567 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1069
566 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1074
565 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1084
564 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1085
563 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1090
562 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1091
561 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1113
560 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1120
559 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1122
558 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1124
557 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1126
556 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1131

Boards


XE Login