Others O2 Plasma 에칭 실험이요

2019.01.30 14:20

Elin0503 조회 수:1219

안녕하세요. 회사에 다니고 있는 직장인입니다.


이번에 저희 회사 연구실에서 O2 Plasma를 이용하여 Carbon Film을 날리는 실험을 계획중에 있습니다.


그런데 Carbon Film이 Depo된 Wafer를 구하기가 쉽지가 않습니다..


혹시 Carbon 시편을 구할 수 있는 곳이라던가 연락처아시면 


공유가 가능할까 싶어 너무나 간절한 마음에 여기에 이렇게 질문글을 작성합니다..


도움 부탁드리겠습니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103353
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24717
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61537
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73521
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105954
» O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 1219
613 RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher] [1] 1228
612 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1229
611 플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films] [1] 1238
610 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1240
609 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1241
608 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭] [1] 1242
607 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브] [2] 1245
606 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1246
605 자기 거울에 관하여 1248
604 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1255
603 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1266
602 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1267
601 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 1268
600 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1283
599 아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance] [1] 1287
598 Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown] [1] 1290
597 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1293
596 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1302
595 3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존] [2] 1313

Boards


XE Login