안녕하세요, 저는 대학원에서 이제 막 스퍼터링 관련 연구를 시작하게 된 학생입니다.

 

작은 진공 챔버만 있고 아무것도 없는 상태에서 가장 기본적인 스퍼터링 시스템을 만들고자 하는데요, Fluoride (LaF3, YF3 등)를 스퍼터링을 할 때에 안전에 대한 조언을 부탁드리고자 글을 남깁니다. 스퍼터링 시스템을 동작시키는 여러 프로시져 등은 여러군데서 찾아볼 수 있지만, 그 이전에, 실험 환경의 안전 시스템은 어느정도로 구축해야될 지 가늠이 서질 않습니다.

 

예를 들어 Ar 가스를 사용하여 약 지름이 5cm인 YF3 원형 타겟을 스퍼터한다고 가정을 하면, 

1. 타겟으로부터 F와 Yttrium 성분이 경우에 따라 어떤 형태로 떨어져나올 수 있는지, (일반적으로 Ar양이온이 충돌하여 YF3화합물의 형태로 그대로 떼어낼 것 같으나, 만약 어떠한 이유로 F가 별도로 분리되는? 그런경우도 있을 수 있을까요?)

2. 그 외 어떠한 이유로 F성분이 챔버 Leak이나 펌프 배기 등의 문제로 밖으로 샐 경우에 인체에 해를 심각하게 가할 정도가 될 수도 있는 지,

 

위 2가지와 관련해서 전문가의 조언을 좀 구할 수 있을까요? 아무래도 Fluorine성분이 있다보니 마음에 걸립니다.

관련 안전 담당부서와 논의를 할 것이긴 합니다만 전문성이 부족할 수도 있을 것을 대비해서 조언을 부탁드립니다. 참고로, 연구실에는 챔버 1개용으로 충분한 Fumehood와 일반적인 반도체회사에서 사용하는 호흡기와 필터정도는 있습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76872
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1370
575 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2451
» Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 459
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1119
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6419
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 818
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 588
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 969
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1509
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1172
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5577
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 852
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1708
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 2249
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2587
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 549
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3332
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16668
558 알고싶습니다 [1] 1468

Boards


XE Login